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日本excimer準(zhǔn)分子光學(xué)處理系統(tǒng)E172 -70 光學(xué)測量儀

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更新日期:2024-03-23

簡要描述:

日本excimer準(zhǔn)分子光學(xué)處理系統(tǒng)E172 -70
使用準(zhǔn)分子紫外光源的光學(xué)表面處理可以對薄膜材料等易受熱影響的物體進(jìn)行低溫表面處理,因為由于光源的特性,被照射物體的溫度不易升高。 此外,光化學(xué)反應(yīng)不太可能損壞工件。

日本excimer準(zhǔn)分子光學(xué)處理系統(tǒng)E172 -70 光學(xué)測量儀
品牌其他品牌產(chǎn)品種類臺式
數(shù)顯功能溫控功能
產(chǎn)地進(jìn)口

日本excimer準(zhǔn)分子光學(xué)處理系統(tǒng)E172 -70

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特征

  • 節(jié)省空間的臺式優(yōu)化

  • 快速處理時間

  • 僅AC100V電源

  • 配備定時器設(shè)置處理時間

  • 配備門聯(lián)鎖

  • 配備臭氧處理裝置

  • 無汞燈

  • 內(nèi)置高度調(diào)節(jié)平臺

高性能,簡單的基本設(shè)計。

使用準(zhǔn)分子紫外光源的光學(xué)表面處理可以對薄膜材料等易受熱影響的物體進(jìn)行低溫表面處理,因為由于光源的特性,被照射物體的溫度不易升高。 此外,光化學(xué)反應(yīng)不太可能損壞工件。

應(yīng)用示例

  • 潤濕性、親水性、親和力改善

  • 提高接合表面的附著力

  • 表面改性

  • 有機物分解、清洗

日本excimer準(zhǔn)分子光學(xué)處理系統(tǒng)E172 -70

基本規(guī)格


產(chǎn)品名稱準(zhǔn)分子紫外光處理機臺式實驗室規(guī)格
型號E172-70
波長172納米
光源艾西米燈 Φ18 x 120 mm
初始照度20mW/cm2以上
連續(xù)照明操作10分鐘內(nèi)(由于重量輕,風(fēng)冷設(shè)計小)
外部尺寸195(寬)× 380(深) x480(高)毫米※
效用電源 AC100V 50/60Hz 2A
定期更換零件廢氣臭氧分解裝置建議1年或酌情更換
定期檢查高壓電源、光源等 5年或視情況而定




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