日本microphase石墨烯合成設備MPCVD-50

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更新日期：2024-03-22

簡要描述：

日本microphase石墨烯合成設備MPCVD-50
用于碳納米管的合成、碳成膜、納米陶瓷成膜、氮化、硫?qū)倩锍赡さ取?/p>

燃料	電加熱鍋爐	結構形式	立式
出口壓力	高壓

日本microphase石墨烯合成設備MPCVD-50

用于碳納米管的合成、碳成膜、納米陶瓷成膜、氮化、硫?qū)倩锍赡さ取?/p>

目的：	用于合成碳納米管、在粉末樣品上沉積碳膜以及各種 CVD 膜沉積的通用管式爐型熱 CVD 設備。通過增加氨氣、各種CVD反應氣體、升華固體前驅(qū)體、液體前驅(qū)體的引入單元，可應用于氮化、硫?qū)倩铮ǘ蚧fMoS2等）層狀材料沉積等。
特征：	配備液體燃料（乙醇）引入系統(tǒng)，可用于無法安裝烴類氣體的場所。　3系統(tǒng)質(zhì)量流量氣體流量控制系統(tǒng)，可以進行精確的氣體控制。　真空排氣系統(tǒng)是標準設備，可用作真空爐或氣氛爐。　緊湊而堅固的外殼設計，易于安裝在桌面實驗室工作臺上。　高度可擴展且易于處理任何類型的處理。

目的：

用于合成碳納米管、在粉末樣品上沉積碳膜以及各種 CVD 膜沉積的通用管式爐型熱 CVD 設備。
通過增加氨氣、各種CVD反應氣體、升華固體前驅(qū)體、液體前驅(qū)體的引入單元，
可應用于氮化、硫?qū)倩铮ǘ蚧fMoS2等）層狀材料沉積等。

特征：

LIB電池用Si負極材料上的碳涂層

二硫化鉬薄膜

長 CNT/Si 的 SEM 圖像

粉末狀 CNT 的 SEM 圖像

日本microphase石墨烯合成設備MPCVD-50

主要規(guī)格

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